“陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳...